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碳化硅作為寬禁帶半導體材料,其在功率半導體領域的應用經歷了從實驗室研究到產業化應用的漫長過程:
2018年:國產SiC碳化硅MOSFET廠商率先攻克關鍵技術瓶頸,發布國內首款通過工業級可靠性測試的1200V碳化硅MOSFET,核心參數達到當時主流水平(溝道電子遷移率14cm2/V·S,柵氧擊穿場強8.8MV/cm)。
2023年:國產SiC廠商基于6英寸晶圓平臺推出第二代碳化硅MOSFET系列,性能實現質的飛躍,比導通電阻降低40%,開關損耗減少30%,工作結溫提升至175°C。
2024年:國產SiC廠商迭代推出的1200V 80mΩ和40mΩ規格車規級碳化硅MOSFET系列通過AEC-Q101認證,封裝覆蓋TO-247-3、TO-247-4和TO-263-7等多種形式。
全球范圍內,Wolfspeed和Coherent形成碳化硅襯底制造雙寡頭格局,日本羅姆通過收購SiCrystal公司也成為重要供應商。中國廠商如天岳先進、天科合達、爍科晶體和同光晶體等技術進步迅速,產能持續擴張。

氮化鎵功率半導體的發展路徑與SiC有所不同,主要集中在消費電子領域:
2018年:意法半導體與法國CEA Tech下屬Leti研究所建立戰略合作,重點開發硅基氮化鎵外延生長技術和功率二極管結構創新。
2020年:意法半導體聯合臺積電推進200mm晶圓制程開發,通過改進金屬有機物化學氣相沉積(MOCVD)工藝參數,降低晶圓缺陷密度。
2021年12月:意法半導體正式發布氮化鎵功率半導體器件,標志著其STPOWER產品組合實現第三代半導體技術突破,工作電壓覆蓋65V至900V范圍。
2023年:全球氮化鎵功率器件市場中,6英寸及8英寸氮化鎵的市占率分別為66.3%及33.7%,8英寸成為發展趨勢。
| 特性 | SiC | GaN |
| 禁帶寬度 | 3.3 eV | 3.4 eV |
| 熱導率 | 高 | 中等 |
| 電子遷移率 | 中等 | 高 |
| 電壓承受能力 | 高 (1200V-1700V+) | 低 (650V-700V) |
| 適用場景 | 高功率、高電壓應用 | 高頻、小功率應用 |
| 成熟度 | 較成熟 | 較新,快速發展 |
| 主流技術路線 | 硅基襯底 | 硅基襯底 (GaN-on-Si) |
(1) 新能源汽車(73.1%市場份額)
主驅動逆變器:SiC MOSFET模塊取代IGBT模塊,消除"拖尾電流",關斷損耗可降低約78%,總開關損耗大幅下降
車載充電器(OBC):提高充電效率,支持800V高壓平臺實現快充
DC-DC轉換器:提升能量轉換效率,減少系統體積
(2) 光伏與儲能系統(7.7%市場份額)
光伏逆變器:大幅提升轉換效率,高頻特性減小設備體積和重量
儲能變流器(PCS):提高系統效率,延長設備壽命
(3) 工業及其他領域(19.2%市場份額)
不間斷電源(UPS):提高能效,降低運營成本
服務器電源:提升數據中心能效
軌道交通:牽引變流器應用
智能電網:固態變壓器(SST)應用
(1) 消費電子(75%市場份額)
快充適配器:體積僅為傳統硅基充電器的1/3,效率提升30%以上
手機/筆記本電腦充電器:支持100W以上快充方案的小型化設計
LED照明驅動器:支持PWM調光與恒流輸出
家電內置開關電源:提升能效
(2) 通信與射頻(18%市場份額)
5G基站射頻功率放大器:對LDMOS器件形成替代
衛星通信:提升覆蓋范圍和數據傳輸速率
國防軍工:應用于雷達特別是先進有源相控陣雷達
(3) 電動汽車(4%市場份額,預計2029年達17%)
車載充電器(OBC):與SiC形成互補
DC-DC變換器:提高效率
激光雷達驅動器:支持高精度感知
(4) 數據中心(10%市場份額)
服務器電源:與液冷技術結合,提高能效
智算中心:為AI服務器提供高能效電源
2024年全球碳化硅功率半導體器件市場規模:26億美元,同比增長8.3%
2024年碳化硅在全球功率半導體中滲透率:4.9%
2024年全球碳化硅襯底市場規模:92億元,同比增長24.3%
2024年全球碳化硅外延片銷量:98.99萬片,同比增長24.7%
2024年全球碳化硅和氮化鎵功率器件市場總收入:54.32億美元
2031年預計市場規模:211.4億美元,2025-2031年期間年復合增長率高達20.5%
2023年全球氮化鎵功率器件消費類應用占比:75%
2029年預計汽車與出行市場占比:17%
大尺寸化:從6英寸向8英寸甚至12英寸晶圓過渡,降低單位成本
垂直整合:IDM模式與垂直整合成為主流,確保供應鏈安全
成本下降:隨著良率提升和規模效應顯現,SiC器件價格逐步下降
技術迭代:溝槽柵SiC MOSFET、更先進的封裝技術(如銅夾片鍵合、銀燒結)持續發展
晶圓尺寸升級:從6英寸向8英寸過渡,提升單批次芯片產出量
應用拓展:從消費電子向高功率應用拓展,如電動汽車、數據中心
技術路線:硅基氮化鎵(GaN-on-Si)成為主流技術路線,成本優勢明顯
市場滲透:Trend Force預計2025年氮化鎵解決方案在快充市場滲透率將達到52%
國際巨頭:Wolfspeed(全球領導者)、英飛凌、意法半導體、羅姆、安森美
中國廠商:華潤微、士蘭微、比亞迪半導體、聞泰科技、三安光電、基本半導體、泰科天潤、芯聚能
市場分布:國際巨頭在上游襯底和中游高端器件制造領域仍占主導,中國廠商正從下游應用市場向上游材料和中游制造快速滲透
國際巨頭:意法半導體、英飛凌、納微半導體、EPC、英諾賽科
中國廠商:納微半導體、英諾賽科、三安光電、華潤微
技術路線:硅基氮化鎵(GaN-on-Si)成為主流,成本優勢明顯
SiC與GaN作為第三代半導體材料,在功率半導體領域各具優勢,形成了互補的應用格局:
SiC:在高功率、高電壓、高溫環境下表現優異,是新能源汽車、光伏儲能、工業電源等領域的首選,市場滲透率持續提升,電動汽車是其最大應用領域(73.1%)。
GaN:在高頻、小功率應用場景中具有成本優勢,主要應用于消費電子快充、5G通信、數據中心等,消費類應用占比達75%,正逐步向高功率領域滲透。
隨著技術進步和成本下降,SiC和GaN將在不同應用領域繼續擴大市場份額。預計到2031年,全球碳化硅和氮化鎵功率器件市場規模將突破210億美元,年復合增長率達20.5%,形成SiC主導高功率市場、GaN主導高頻小功率市場的格局,共同推動功率半導體產業的快速發展。

水基清洗的工藝和設備配置選擇對清洗精密器件尤其重要,一旦選定,就會作為一個長期的使用和運行方式。水基清洗劑必須滿足清洗、漂洗、干燥的全工藝流程。
污染物有多種,可歸納為離子型和非離子型兩大類。離子型污染物接觸到環境中的濕氣,通電后發生電化學遷移,形成樹枝狀結構體,造成低電阻通路,破壞了電路板功能。非離子型污染物可穿透PC B 的絕緣層,在PCB板表層下生長枝晶。除了離子型和非離子型污染物,還有粒狀污染物,例如焊料球、焊料槽內的浮點、灰塵、塵埃等,這些污染物會導致焊點質量降低、焊接時焊點拉尖、產生氣孔、短路等等多種不良現象。
這么多污染物,到底哪些才是最備受關注的呢?助焊劑或錫膏普遍應用于回流焊和波峰焊工藝中,它們主要由溶劑、潤濕劑、樹脂、緩蝕劑和活化劑等多種成分,焊后必然存在熱改性生成物,這些物質在所有污染物中的占據主導,從產品失效情況來而言,焊后殘余物是影響產品質量最主要的影響因素,離子型殘留物易引起電遷移使絕緣電阻下降,松香樹脂殘留物易吸附灰塵或雜質引發接觸電阻增大,嚴重者導致開路失效,因此焊后必須進行嚴格的清洗,才能保障電路板的質量。
合明科技研發的水基清洗劑配合合適的清洗工藝能為芯片封裝前提供潔凈的界面條件。
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合明科技憑借精湛的產品技術水平受邀成為國際電子工業連接協會技術組主席單位,編寫全球首部中文版《清洗指導》IPC標準(標準編號:IPC-CH-65B CN)(“Guidelines for Cleaning of Printed Boards and Assemblies”),IPC標準是全球電子行業優先選用標準,是集成電路材料產業技術創新聯盟會員成員。
主營產品包括:集成電路與先進封裝清洗材料、電子焊接助焊劑、電子環保清洗設備、電子輔料等。
半導體技術應用節點:FlipChip ;2D/2.5D/3D堆疊集成;COB綁定前清洗;晶圓級封裝;高密度SIP焊后清洗;功率電子清洗。