因?yàn)閷I(yè)
所以領(lǐng)先
DBHi (Direct Bonded Heterogeneous Integration,直接鍵合異構(gòu)集成)是IBM提出的一種基于硅橋芯片互連的先進(jìn)封裝技術(shù),是一種基于直接鍵合的異構(gòu)集成技術(shù)。這項(xiàng)技術(shù)旨在解決先進(jìn)封裝中互連密度、成本和可靠性問題,是芯片級異構(gòu)集成的重要解決方案。

DBHi技術(shù)的核心是通過直接鍵合方式將硅橋與芯片連接,形成芯片-硅橋預(yù)制件,然后將預(yù)制件與基板進(jìn)行封裝。與傳統(tǒng)封裝方式不同,DBHi的硅橋不會被完全包封,而是直接與芯片形成互連結(jié)構(gòu)。
DBHi與英特爾的EMIB技術(shù)存在幾個(gè)關(guān)鍵差異:
| 特性 | EMIB | DBHi |
| 芯片上的凸點(diǎn)類型 | C4和C2兩種類型 | 僅C4 bump |
| 硅橋上的凸點(diǎn) | 無 | C2銅柱凸點(diǎn) |
| 硅橋安裝方式 | 嵌入基板腔中,完全包封 | 與芯片直接鍵合,不完全包封 |
| 基板結(jié)構(gòu) | 需要特殊腔體設(shè)計(jì) | 常規(guī)基板即可,可選腔體結(jié)構(gòu) |
| 制造復(fù)雜度 | 較高 | 較低 |
DBHi的封裝工藝主要包括以下步驟:
預(yù)制件制作:在硅橋上生長C2銅柱凸點(diǎn),在芯片上生長C2球狀凸點(diǎn)及焊盤
芯片-橋鍵合:使用非導(dǎo)電漿料(NCP)和熱壓縮鍵合(TCB)將芯片1與硅橋鍵合
芯片-橋鍵合:使用NCP和TCB將芯片2與硅橋鍵合,形成芯片1+橋+芯片2的模塊
基板組裝:將模塊放置在帶有腔結(jié)構(gòu)的有機(jī)基板上,進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)倒裝焊(reflow)組裝
保護(hù)處理:橋下填充可選,用于保護(hù)鍵合界面
硅橋上的BEOL級細(xì)間距互連可實(shí)現(xiàn)高帶寬互連
通過匹配芯片和橋接器的CTE(熱膨脹系數(shù)),實(shí)現(xiàn)約30μm的細(xì)間距互連接頭
低BoM(物料清單)成本:使用標(biāo)準(zhǔn)間距基板,不需要大型硅中介層、細(xì)間距RDL或橋式嵌入式基板
與EMIB相比,基板設(shè)計(jì)更簡單,制造流程更短
由于硅橋與芯片直接鍵合,減少了中間層的可靠性風(fēng)險(xiǎn)
避免了在基板中嵌入硅橋帶來的應(yīng)力問題
無需在基板上制造復(fù)雜的腔體結(jié)構(gòu)
2023年,IBM在IEEE/ECTC上發(fā)表論文提出,甚至可以不需要在基板上加工腔結(jié)構(gòu),進(jìn)一步簡化工藝
2021-2022年:IBM在IEEE/ECTC會議上發(fā)表7篇關(guān)于DBHi的論文
2023年:IBM發(fā)表"直接鍵合異構(gòu)集成(DBHi):用于芯片拼貼的表面橋技術(shù)"論文,提出可省略基板腔結(jié)構(gòu)
DBHi技術(shù)適用于需要高帶寬、低延遲、低功耗通信的芯片互連場景,特別適合:
多芯片系統(tǒng)集成
高性能計(jì)算(HPC)應(yīng)用
人工智能加速器
芯粒(Chiplet)集成
DBHi技術(shù)與當(dāng)前芯片封裝行業(yè)的發(fā)展趨勢高度契合:
與UCIe(通用芯粒互連)標(biāo)準(zhǔn)兼容,支持芯粒集成
作為替代傳統(tǒng)TSV(硅通孔)中介層的方案,降低封裝成本
與混合鍵合技術(shù)結(jié)合,可進(jìn)一步提高互連密度
DBHi技術(shù)并非簡單地將芯片并排擺放,而是通過一個(gè)嵌入式的硅橋(Si-Bridge)作為芯片間的“高速專用通道”。其結(jié)構(gòu)和工作原理與傳統(tǒng)2.5D封裝有明顯區(qū)別:
| 特性維度 | DBHi(直接鍵合異質(zhì)集成) | 傳統(tǒng)2.5D封裝(如CoWoS) | Hybrid Bonding(混合鍵合) |
| 互連中介 | 嵌入式硅橋,鍵合在芯片側(cè)下方。 | 大型硅中介層,芯片整體置于其上。 | 無中介,芯片面對面直接鍵合。 |
| 互連方式 | 芯片與硅橋通過微米級銅柱連接。 | 芯片與中介層通過微凸塊連接。 | 銅-銅、介質(zhì)-介質(zhì)的直接鍵合,無凸塊。 |
| 互連密度 | 極高,焊點(diǎn)節(jié)距可達(dá)30微米。 | 高,但通常大于DBHi。 | 極致,可達(dá)到微米甚至亞微米級。 |
| 結(jié)構(gòu)特點(diǎn) | 局部互連,硅橋僅連接芯片邊緣需要高帶寬的區(qū)域,無需在基板上開槽。 | 全局互連,中介層覆蓋整個(gè)芯片區(qū)域,布線靈活。 | 3D堆疊,實(shí)現(xiàn)芯片的垂直集成,最節(jié)省面積。 |
| 技術(shù)定位 | 針對芯片間超高速互連的優(yōu)化方案,平衡性能、復(fù)雜度和成本。 | 成熟的多芯片高密度集成平臺。 | 終極3D集成方案,追求最高密度和性能,工藝挑戰(zhàn)最大。 |
DBHi:硅橋與芯片直接鍵合,基板結(jié)構(gòu)簡單,成本更低
EMIB:硅橋嵌入基板腔體,需要復(fù)雜基板制造,成本較高
DBHi:硅橋與芯片直接鍵合,不需要嵌入基板
LSI:硅橋嵌入基板中的EMC(嵌入式模塑料)層,需在基板中制造腔體
DBHi:使用C4和C2凸點(diǎn),互連間距較大
混合鍵合:使用Cu-Cu直接鍵合,可實(shí)現(xiàn)更小間距(約8μm)和更高密度
DBHi技術(shù)代表了先進(jìn)封裝中硅橋互連技術(shù)的創(chuàng)新方向,其簡化的設(shè)計(jì)和制造流程使其在成本敏感的應(yīng)用中具有明顯優(yōu)勢。隨著Chiplet(芯粒)架構(gòu)的普及,DBHi等硅橋互連技術(shù)將在異構(gòu)集成中扮演越來越重要的角色。
IBM在DBHi技術(shù)上的持續(xù)創(chuàng)新,特別是2023年提出可省略基板腔結(jié)構(gòu)的改進(jìn),進(jìn)一步降低了技術(shù)復(fù)雜度和成本,為DBHi技術(shù)的商業(yè)化應(yīng)用鋪平了道路。隨著UCIe等標(biāo)準(zhǔn)的推廣,DBHi有望成為Chiplet集成的主流方案之一。
DBHi技術(shù)通過直接鍵合方式將硅橋與芯片連接,避免了傳統(tǒng)封裝中復(fù)雜的硅中介層和基板結(jié)構(gòu),顯著降低了制造成本,同時(shí)保持了高性能的互連特性。其核心優(yōu)勢在于:
簡化的封裝基板設(shè)計(jì)
低成本的制造工藝
高可靠性的互連結(jié)構(gòu)
與行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的兼容性
隨著Chiplet架構(gòu)的普及和先進(jìn)封裝技術(shù)的發(fā)展,DBHi技術(shù)有望在高性能計(jì)算、人工智能和數(shù)據(jù)中心等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。
水基清洗的工藝和設(shè)備配置選擇對清洗精密器件尤其重要,一旦選定,就會作為一個(gè)長期的使用和運(yùn)行方式。水基清洗劑必須滿足清洗、漂洗、干燥的全工藝流程。
污染物有多種,可歸納為離子型和非離子型兩大類。離子型污染物接觸到環(huán)境中的濕氣,通電后發(fā)生電化學(xué)遷移,形成樹枝狀結(jié)構(gòu)體,造成低電阻通路,破壞了電路板功能。非離子型污染物可穿透PC B 的絕緣層,在PCB板表層下生長枝晶。除了離子型和非離子型污染物,還有粒狀污染物,例如焊料球、焊料槽內(nèi)的浮點(diǎn)、灰塵、塵埃等,這些污染物會導(dǎo)致焊點(diǎn)質(zhì)量降低、焊接時(shí)焊點(diǎn)拉尖、產(chǎn)生氣孔、短路等等多種不良現(xiàn)象。
這么多污染物,到底哪些才是最備受關(guān)注的呢?助焊劑或錫膏普遍應(yīng)用于回流焊和波峰焊工藝中,它們主要由溶劑、潤濕劑、樹脂、緩蝕劑和活化劑等多種成分,焊后必然存在熱改性生成物,這些物質(zhì)在所有污染物中的占據(jù)主導(dǎo),從產(chǎn)品失效情況來而言,焊后殘余物是影響產(chǎn)品質(zhì)量最主要的影響因素,離子型殘留物易引起電遷移使絕緣電阻下降,松香樹脂殘留物易吸附灰塵或雜質(zhì)引發(fā)接觸電阻增大,嚴(yán)重者導(dǎo)致開路失效,因此焊后必須進(jìn)行嚴(yán)格的清洗,才能保障電路板的質(zhì)量。
合明科技研發(fā)的水基清洗劑配合合適的清洗工藝能為芯片封裝前提供潔凈的界面條件。
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