因為專業
所以領先
傳統封裝:
目標: 保護、供電、散熱、信號互通。將制造好的裸晶片(Die)與外部世界連接起來,提供一個穩定可靠的物理外殼。
理念: “封裝即最后一步”。它是芯片制造(前道)完成后的一個獨立、相對標準化的后道工序。芯片設計、制造、封裝是清晰的串行流程。

先進封裝:
目標: 提升系統性能、提高集成度、實現異構集成、延續摩爾定律。通過封裝技術本身來提升芯片的整體速度、帶寬、能效比和功能多樣性。
理念: “封裝即系統集成平臺”。封裝從后端輔助角色,轉變為系統設計和集成的前沿陣地。它與芯片設計、制造深度融合,是協同設計和優化的關鍵環節。
傳統封裝通常采用"先切割后封裝"的工藝流程:
將晶圓切割成單個芯片后,再進行獨立封裝
主要關注芯片的物理保護、電氣連接和尺度放大功能
工藝相對簡單,主要包括芯片粘貼、引線鍵合、塑封、切筋成型等步驟
封裝形式主要包括DIP、SOP、QFP、QFN、BGA等

先進封裝采用更為復雜的工藝流程:
包含"先封裝后切割"的晶圓級封裝工藝
采用堆疊封裝、系統級封裝等復雜技術手段
工藝流程包括晶圓減薄、TSV制作、微凸點制作、晶圓重構、臨時鍵合/解鍵合等
代表技術包括倒裝芯片(Flip-Chip)、晶圓級封裝(WLP)、2.5D/3D封裝、系統級封裝(SiP)、Chiplet等
主要采用引線鍵合(Wire Bonding)技術
使用金屬引線連接芯片與封裝基板
信號傳輸路徑長,存在較大的RC延遲
互連密度低,I/O數量有限
采用倒裝凸點(Flip-Chip)、硅通孔(TSV)、銅-銅鍵合等高密度互連技術
通過微凸點(Bumping)實現芯片與基板的直接連接
信號傳輸路徑大幅縮短,減少延遲
互連密度高,可實現更多I/O數量
間距持續縮小,Bump I/O間距將縮小至40-50微米之間
封裝效率(裸芯面積/基板面積)較低,例如QFP封裝效率最高僅為30%
封裝尺寸較大,不利于電子產品小型化
集成度低,通常只封裝單一芯片
封裝效率顯著提高,減少面積浪費
通過三維堆疊、異構集成等技術實現高密度集成
封裝尺寸大幅減小,滿足電子產品小型化需求
可在同一封裝內集成多個不同功能的芯片和無源器件
信號延遲長,傳輸速度慢
功耗較高,能源利用效率低
散熱性能有限
電氣性能一般
信號傳輸速度快,延遲低
通過優化芯片布局和連接方式降低功耗
散熱性能顯著提升
電氣性能優越,支持高速數據傳輸
有效突破"存儲墻"、"面積墻"和"功能墻"等集成電路發展限制
可靠性一般,受引線鍵合質量影響較大
抗振動、抗沖擊能力有限
熱應力管理能力較弱
通過嵌入式封裝、光電封裝等技術提高系統可靠性
倒裝芯片技術減少2/3的互聯引腳數,提高可靠性
更好的熱管理能力,延長產品使用壽命
通過異構集成技術實現多物理場的有效融合
消費電子產品中對成本敏感或性能要求不高的領域
工業控制、家用電器等
低端處理器、普通存儲器等
高性能計算、AI芯片、數據中心GPU
高帶寬存儲器(HBM)、圖像處理芯片
物聯網模塊、可穿戴設備
汽車電子、5G通信設備
高端智能手機處理器、射頻芯片等
不斷創新演變以適應不同產品應用
在特定領域仍有市場空間,但需求呈下降趨勢
通過材料和工藝改進提升性能
成為后摩爾時代延續芯片性能提升的主要路徑
2.5D/3D封裝成為未來發展主線
面板級封裝通過增大加工面積降低30%成本
玻璃基板封裝技術預計2026年量產
Chiplet(芯粒)技術成為主流路徑,實現異質集成
間距持續縮小,重布層線寬間距將至2/2微米
臺積電在先進封裝領域起步最早,市場影響力最大,已推出CoWoS、InFO、SoIC等技術
三星自研I-Cube(2.5D)、X-Cube(3D)等先進封裝技術
英特爾推廣EMIB(嵌入式多芯片互連橋)2.5D封裝技術
SK海力士等存儲器制造商正向下游先進封裝領域進行垂直整合
先進封裝市場預計2024年迎來全面反彈,AI相關及通信終端領域將提供增長動能
先進封裝通過三維結構、異構集成和高密度互連技術,突破了傳統封裝在性能和集成度上的限制,成為半導體行業應對"摩爾定律放緩"的關鍵技術方向,代表著芯片封裝制造工藝的未來發展方向。
水基清洗的工藝和設備配置選擇對清洗精密器件尤其重要,一旦選定,就會作為一個長期的使用和運行方式。水基清洗劑必須滿足清洗、漂洗、干燥的全工藝流程。
污染物有多種,可歸納為離子型和非離子型兩大類。離子型污染物接觸到環境中的濕氣,通電后發生電化學遷移,形成樹枝狀結構體,造成低電阻通路,破壞了電路板功能。非離子型污染物可穿透PC B 的絕緣層,在PCB板表層下生長枝晶。除了離子型和非離子型污染物,還有粒狀污染物,例如焊料球、焊料槽內的浮點、灰塵、塵埃等,這些污染物會導致焊點質量降低、焊接時焊點拉尖、產生氣孔、短路等等多種不良現象。
這么多污染物,到底哪些才是最備受關注的呢?助焊劑或錫膏普遍應用于回流焊和波峰焊工藝中,它們主要由溶劑、潤濕劑、樹脂、緩蝕劑和活化劑等多種成分,焊后必然存在熱改性生成物,這些物質在所有污染物中的占據主導,從產品失效情況來而言,焊后殘余物是影響產品質量最主要的影響因素,離子型殘留物易引起電遷移使絕緣電阻下降,松香樹脂殘留物易吸附灰塵或雜質引發接觸電阻增大,嚴重者導致開路失效,因此焊后必須進行嚴格的清洗,才能保障電路板的質量。
合明科技研發的水基清洗劑配合合適的清洗工藝能為芯片封裝前提供潔凈的界面條件。
合明科技運用自身原創的產品技術,滿足芯片封裝工藝制程清洗的高難度技術要求,打破國外廠商在行業中的壟斷地位,為芯片封裝材料全面國產自主提供強有力的支持。
推薦使用合明科技水基清洗劑產品。
合明科技致力于為SMT電子表面貼裝清洗、功率電子器件清洗及先進封裝清洗提供高品質、高技術、高價值的產品和服務。合明科技 (13691709838)Unibright 是一家集研發、生產、銷售為一體的國家高新技術、專精特新企業,具有二十多年的水基清洗工藝解決方案服務經驗,掌握電子制程環保水基清洗核心技術。水基技術產品覆蓋從半導體芯片封測到 PCBA 組件終端的清洗應用。是IPC-CH-65B CN《清洗指導》標準的單位。合明科技全系列產品均為自主研發,具有深厚的技術開發能力,擁有五十多項知識產權、專利,是國內為數不多擁有完整的電子制程清洗產品鏈的公司。合明科技致力成為芯片、電子精密清洗劑的領先者。以國內自有品牌,以完善的服務體系,高效的經營管理機制、雄厚的技術研發實力和產品價格優勢,為國內企業、機構提供更好的技術服務和更優質的產品。合明科技的定位不僅是精湛技術產品的提供商,另外更具價值的是能為客戶提供可行的材料、工藝、設備綜合解決方案,為客戶解決各類高端精密電子、芯片封裝制程清洗中的難題,理順工藝,提高良率,成為客戶可靠的幫手。
合明科技憑借精湛的產品技術水平受邀成為國際電子工業連接協會技術組主席單位,編寫全球首部中文版《清洗指導》IPC標準(標準編號:IPC-CH-65B CN)(“Guidelines for Cleaning of Printed Boards and Assemblies”),IPC標準是全球電子行業優先選用標準,是集成電路材料產業技術創新聯盟會員成員。
主營產品包括:集成電路與先進封裝清洗材料、電子焊接助焊劑、電子環保清洗設備、電子輔料等。
半導體技術應用節點:FlipChip ;2D/2.5D/3D堆疊集成;COB綁定前清洗;晶圓級封裝;高密度SIP焊后清洗;功率電子清洗。