因?yàn)閷I(yè)
所以領(lǐng)先

| 維度 | 芯片先進(jìn)封裝技術(shù) | SiP系統(tǒng)級(jí)封裝技術(shù) |
| 定義 | 泛指超越傳統(tǒng)封裝(如DIP、SOP)的高密度集成技術(shù),涵蓋倒裝芯片(Flip Chip)、晶圓級(jí)封裝(WLP)、扇出型封裝(Fan-out)等,核心是通過(guò)工藝創(chuàng)新提升單一芯片的性能、密度或可靠性。 | 一種多芯片集成技術(shù),將多個(gè)功能芯片(如處理器、存儲(chǔ)器、傳感器)及被動(dòng)元件(電阻、電容等)集成在同一封裝基板上,形成完整功能系統(tǒng)的封裝形式。 |
| 核心目標(biāo) | 優(yōu)化單一芯片的物理性能(如縮小尺寸、降低功耗、提升散熱效率)。 | 實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)級(jí)功能集成,通過(guò)多芯片協(xié)同工作滿足復(fù)雜場(chǎng)景需求(如智能手機(jī)模組、物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備)。 |
| 對(duì)比項(xiàng) | 芯片先進(jìn)封裝技術(shù) | SiP系統(tǒng)級(jí)封裝技術(shù) |
| 集成對(duì)象 | 以單一芯片為核心,通過(guò)先進(jìn)工藝(如TSV硅通孔、RDL重新布線)提升芯片內(nèi)部互聯(lián)密度。 | 以多芯片及元件為核心,可集成不同工藝、不同功能的裸片(如邏輯芯片+射頻芯片+無(wú)源元件)。 |
| 設(shè)計(jì)靈活性 | 受限于單一芯片的工藝節(jié)點(diǎn),需與晶圓制造協(xié)同優(yōu)化(如FinFET工藝與CoWoS封裝匹配)。 | 可混合集成不同代際、不同類型的芯片(如7nm處理器+14nm射頻芯片),靈活度更高。 |
| 開發(fā)周期與成本 | 研發(fā)周期長(zhǎng)(需匹配芯片制程迭代),成本較高(依賴先進(jìn)設(shè)備與材料)。 | 開發(fā)周期短(可復(fù)用成熟芯片IP),成本相對(duì)較低(避免單一芯片全定制的高研發(fā)投入)。 |
| 典型應(yīng)用場(chǎng)景 | 高性能計(jì)算芯片(如GPU、CPU)、存儲(chǔ)芯片(如HBM),追求極致算力與帶寬。 | 消費(fèi)電子(如蘋果AirTag、iWatch模組)、物聯(lián)網(wǎng)傳感器、汽車電子控制單元(ECU)。 |
需特別注意:SiP與SoC(系統(tǒng)級(jí)芯片)的區(qū)別是理解SiP定位的關(guān)鍵,而先進(jìn)封裝技術(shù)可能同時(shí)服務(wù)于SoC和SiP。
| 技術(shù) | SiP(系統(tǒng)級(jí)封裝) | SoC(系統(tǒng)級(jí)芯片) |
| 集成層級(jí) | 封裝級(jí)集成:多芯片通過(guò)基板互聯(lián),物理上為獨(dú)立芯片組合。 | 芯片級(jí)集成:所有功能模塊(CPU、GPU、ISP等)集成在單一晶圓上。 |
| 靈活性與成本 | 靈活度高,可快速組合不同功能芯片,開發(fā)成本低。 | 集成度最高,但設(shè)計(jì)復(fù)雜度極高,研發(fā)周期長(zhǎng)、成本高(如5nm SoC流片成本超億美元)。 |
| 典型案例 | 蘋果A系列芯片中的SiP模組(如CPU+基帶+存儲(chǔ))、華為5G基站射頻模組。 | 高通驍龍8系列移動(dòng)處理器、英偉達(dá)Tegra系列芯片。 |
| 技術(shù) | 核心應(yīng)用領(lǐng)域 | 市場(chǎng)驅(qū)動(dòng)因素 |
| 芯片先進(jìn)封裝 | 高性能計(jì)算(如GPU/AI芯片)、高端存儲(chǔ)(HBM)、服務(wù)器芯片,需匹配7nm以下先進(jìn)制程。 | 算力需求爆發(fā)(AI、大數(shù)據(jù))、摩爾定律放緩?fù)苿?dòng)“超越摩爾”技術(shù)創(chuàng)新。 |
| SiP技術(shù) | 消費(fèi)電子(智能手機(jī)、可穿戴設(shè)備)、物聯(lián)網(wǎng)(傳感器節(jié)點(diǎn))、汽車電子(自動(dòng)駕駛ECU)、通信設(shè)備(5G/6G基站)。 | 小型化、低功耗、快速迭代需求(如物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備需集成感知、通信、計(jì)算功能)。 |
包含與被包含:
SiP是芯片先進(jìn)封裝技術(shù)的子集,但更強(qiáng)調(diào)“系統(tǒng)級(jí)功能集成”,而先進(jìn)封裝技術(shù)(如WLP、Fan-out)是實(shí)現(xiàn)SiP的關(guān)鍵支撐工藝(如晶圓級(jí)SiP技術(shù)WL-SiP)。
互補(bǔ)而非替代:
先進(jìn)封裝技術(shù)(如CoWoS、InFO)解決單一芯片的性能瓶頸,適用于高算力場(chǎng)景;
SiP技術(shù)通過(guò)多芯片協(xié)同解決功能集成與成本平衡問(wèn)題,適用于消費(fèi)電子、物聯(lián)網(wǎng)等場(chǎng)景。
未來(lái)趨勢(shì):
兩者將深度融合,例如采用先進(jìn)封裝工藝(如RDL、TSV)提升SiP的集成密度,或通過(guò)SiP理念擴(kuò)展先進(jìn)封裝的系統(tǒng)級(jí)能力(如多芯片模塊MCM)。
核心結(jié)論:
芯片先進(jìn)封裝技術(shù)是“工藝創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)的物理優(yōu)化”,SiP是“系統(tǒng)需求驅(qū)動(dòng)的功能集成”。前者是后者的技術(shù)基礎(chǔ),后者是前者的重要應(yīng)用方向,二者共同推動(dòng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)從“單一芯片性能競(jìng)賽”向“系統(tǒng)級(jí)集成創(chuàng)新”演進(jìn)。
芯片清洗劑選擇:
水基清洗的工藝和設(shè)備配置選擇對(duì)清洗精密器件尤其重要,一旦選定,就會(huì)作為一個(gè)長(zhǎng)期的使用和運(yùn)行方式。水基清洗劑必須滿足清洗、漂洗、干燥的全工藝流程。
污染物有多種,可歸納為離子型和非離子型兩大類。離子型污染物接觸到環(huán)境中的濕氣,通電后發(fā)生電化學(xué)遷移,形成樹枝狀結(jié)構(gòu)體,造成低電阻通路,破壞了電路板功能。非離子型污染物可穿透PC B 的絕緣層,在PCB板表層下生長(zhǎng)枝晶。除了離子型和非離子型污染物,還有粒狀污染物,例如焊料球、焊料槽內(nèi)的浮點(diǎn)、灰塵、塵埃等,這些污染物會(huì)導(dǎo)致焊點(diǎn)質(zhì)量降低、焊接時(shí)焊點(diǎn)拉尖、產(chǎn)生氣孔、短路等等多種不良現(xiàn)象。
這么多污染物,到底哪些才是最備受關(guān)注的呢?助焊劑或錫膏普遍應(yīng)用于回流焊和波峰焊工藝中,它們主要由溶劑、潤(rùn)濕劑、樹脂、緩蝕劑和活化劑等多種成分,焊后必然存在熱改性生成物,這些物質(zhì)在所有污染物中的占據(jù)主導(dǎo),從產(chǎn)品失效情況來(lái)而言,焊后殘余物是影響產(chǎn)品質(zhì)量最主要的影響因素,離子型殘留物易引起電遷移使絕緣電阻下降,松香樹脂殘留物易吸附灰塵或雜質(zhì)引發(fā)接觸電阻增大,嚴(yán)重者導(dǎo)致開路失效,因此焊后必須進(jìn)行嚴(yán)格的清洗,才能保障電路板的質(zhì)量。
合明科技研發(fā)的水基清洗劑配合合適的清洗工藝能為芯片封裝前提供潔凈的界面條件。
合明科技運(yùn)用自身原創(chuàng)的產(chǎn)品技術(shù),滿足芯片封裝工藝制程清洗的高難度技術(shù)要求,打破國(guó)外廠商在行業(yè)中的壟斷地位,為芯片封裝材料全面國(guó)產(chǎn)自主提供強(qiáng)有力的支持。
推薦使用合明科技水基清洗劑產(chǎn)品。