因為專業
所以領先
三維集成與異構堆疊技術
通過硅通孔(TSV)、微凸塊(Micro-bump)等實現芯片垂直堆疊,縮短互連路徑,提升帶寬和能效。例如,英特爾的Foveros 3D堆疊技術可將邏輯芯片與存儲芯片直接堆疊,信號延遲降低30%以上。三維集成也成為HBM(高帶寬內存)與GPU/CPU協同工作的核心方案。
Chiplet(小芯片)模塊化設計
將大型SoC拆分為功能化Chiplet,通過先進封裝重新集成。例如,AMD的EPYC處理器采用7nm計算芯片+14nm I/O芯片的異構組合,成本降低40%且性能提升顯著。該模式成為突破摩爾定律瓶頸的關鍵路徑。

材料與工藝創新
新型互連材料:銅-銅混合鍵合、低介電常數介質(Low-k)等提升互連密度和信號完整性。
散熱技術:相變材料(PCM)、微流體冷卻等應對3D集成的高熱密度問題,如IBM的嵌入式液冷方案可將芯片溫度降低15℃。
系統級封裝(SiP)與多功能集成
集成傳感器、射頻、光電子等異質組件,推動微系統發展。例如,蘋果AirPods Pro通過SiP集成藍牙、傳感器和電源管理芯片,體積縮小50%。軍事領域則用于集成雷達、通信和計算模塊。
| 維度 | 國內進展 | 國際領先水平 |
|---|---|---|
| 核心技術 | 華為、中芯國際等已掌握2.5D硅轉接板技術,長電科技推出XDFOI? Chiplet方案。 | 臺積電CoWoS(2.5D)和SoIC(3D)技術領先,英特爾EMIB橋接互連密度達100μm以下。 |
| 產業鏈協同 | 產學研結合較弱,材料/設備依賴進口(如TSV刻蝕機國產化率<20%)。 | 美國擁有應用材料、Lam Research等設備巨頭,形成從設計到封測的完整生態。 |
| 標準化進程 | 中國電子標準化研究院牽頭制定Chiplet接口標準,但國際影響力有限。 | UCIe(通用芯粒互連)聯盟由英特爾、臺積電等主導,已成為行業事實標準。 |
| 應用場景 | 集中于通信和消費電子(如5G基站芯片、手機AP),汽車/航天領域剛起步。 | 英偉達H100 GPU采用CoWoS-L封裝,算力達4PetaFLOPS;特斯拉Dojo超算實現ExaFLOP級異構集成。 |
技術瓶頸
熱管理:3D堆疊芯片熱流密度超500W/cm2,需開發梯度散熱材料。
可靠性:TSV銅填充缺陷率需從10??降至10??,硅轉接板翹曲控制在±5μm以內。
產業建議
國內:建立國家級的異構集成創新中心,重點突破TSV刻蝕、混合鍵合設備。
國際競爭:通過UCIe等聯盟參與標準制定,推動自主接口協議(如長電科技的XDFOI?)國際化。
異質異構集成封裝正從“單一功能集成”向“系統級智能微系統”演進,國內外差距主要體現在核心工藝設備和生態協同。未來5年,Chiplet生態構建和3D集成可靠性提升將是競爭焦點。
先進芯片封裝清洗介紹
· 合明科技研發的水基清洗劑配合合適的清洗工藝能為芯片封裝前提供潔凈的界面條件。
· 水基清洗的工藝和設備配置選擇對清洗精密器件尤其重要,一旦選定,就會作為一個長期的使用和運行方式。水基清洗劑必須滿足清洗、漂洗、干燥的全工藝流程。
· 污染物有多種,可歸納為離子型和非離子型兩大類。離子型污染物接觸到環境中的濕氣,通電后發生電化學遷移,形成樹枝狀結構體,造成低電阻通路,破壞了電路板功能。非離子型污染物可穿透PC B 的絕緣層,在PCB板表層下生長枝晶。除了離子型和非離子型污染物,還有粒狀污染物,例如焊料球、焊料槽內的浮點、灰塵、塵埃等,這些污染物會導致焊點質量降低、焊接時焊點拉尖、產生氣孔、短路等等多種不良現象。
· 這么多污染物,到底哪些才是最備受關注的呢?助焊劑或錫膏普遍應用于回流焊和波峰焊工藝中,它們主要由溶劑、潤濕劑、樹脂、緩蝕劑和活化劑等多種成分,焊后必然存在熱改性生成物,這些物質在所有污染物中的占據主導,從產品失效情況來而言,焊后殘余物是影響產品質量最主要的影響因素,離子型殘留物易引起電遷移使絕緣電阻下降,松香樹脂殘留物易吸附灰塵或雜質引發接觸電阻增大,嚴重者導致開路失效,因此焊后必須進行嚴格的清洗,才能保障電路板的質量。
· 合明科技運用自身原創的產品技術,滿足芯片封裝工藝制程清洗的高難度技術要求,打破國外廠商在行業中的壟斷地位,為芯片封裝材料全面國產自主提供強有力的支持。